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PVD涂層技術(shù)真空鍍膜流程原理及特點(diǎn)可以歸納如下:
一、PVD涂層技術(shù)真空鍍膜流程原理
PVD(物理氣相沉積)涂層技術(shù)真空鍍膜的基本原理是在真空條件下,利用物理手段將固體靶材蒸發(fā)或?yàn)R射,使得蒸發(fā)的原子或離子沉積到基底表面形成薄膜。這一過程主要包括以下幾個步驟:
前處理工藝:褪膜、噴砂、拋光、鈍化、清洗、裝夾,確保鍍膜前產(chǎn)品表面的清潔。
鍍膜工藝:
抽真空:將真空室內(nèi)的殘余氣體抽走。
加熱烘烤:爐體和工件同時加熱,加速殘余氣體的釋放。
漏率測試(壓升率測試):測試爐體的漏氣率和放氣率,確保真空環(huán)境條件滿足鍍膜標(biāo)準(zhǔn)。
轟擊清洗:去除工件表面的雜質(zhì),露出新鮮表面。
鍍膜:通過蒸發(fā)或?yàn)R射的方式,將蒸發(fā)的原子或離子沉積到基底表面形成薄膜。
冷卻出爐:避免工件氧化變色。
后處理工藝:清洗、拋光等,確保鍍膜質(zhì)量。
二、PVD涂層技術(shù)真空鍍膜的特點(diǎn)
膜層附著力強(qiáng):PVD涂層與工件表面結(jié)合力強(qiáng),耐磨性好、耐腐蝕優(yōu)異。
性能穩(wěn)定:涂層致密性好,耐腐蝕性能強(qiáng)悍,涂層正常使用年限可達(dá)5年以上。
個性化定制:耐磨涂層顏色多樣,可滿足不同領(lǐng)域和個性化定制加工需求。
應(yīng)用廣泛:PVD涂層技術(shù)已廣泛應(yīng)用于不銹鋼制品、精密機(jī)械零配件、新能源汽車配件、自動化裝備、醫(yī)療機(jī)械等領(lǐng)域。
環(huán)境友好:PVD工藝對環(huán)境無不利影響,符合現(xiàn)代綠色制造的發(fā)展方向。
提高性能:經(jīng)過涂層處理后的工具和精密元件,其性能將提高幾個數(shù)量級,如實(shí)現(xiàn)更高的性能、延長使用壽命、降低潤滑劑消耗等。
綜上所述,PVD涂層技術(shù)真空鍍膜具有獨(dú)特的流程原理和顯著的特點(diǎn),使其在多個領(lǐng)域得到了廣泛應(yīng)用。
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